メルマガ nano2biz 第81号をお届けします。

　81回目のnano2biz NEWSをお届けします。
　今年のノーベル賞が発表されました。医学生理学賞にオートファジーの大隅良典・東京工業大学栄誉教授が受賞。3年連続の日本人受賞！おめでとうございます。
　オートファジーも化学賞受賞の分子マシンも究極のナノテクノロジーと言えます。ナノの世界はまだまだ広がります。

配信申込

配信停止

ご意見・その他

nano2biz（at）nbci.jp





発行元：NBCI

ナノテクノロジービジネス推進協議会

○新規メルマガ配信会員募集中

できるだけ多くの方にお申込みいただきたく、

ナノテクにご関心を持たれている方々へのご紹介をお願い致します。

お手数ですが、そうした方々への転送をお願いします。

新規メルマガ配信会員募集中

■世界で初めての透明強磁性体の開発に成功
～新しい磁気光学効果の発見～

＜概要＞
　電磁材料研究所の小林 伸聖 主席研究員、東北大学 学際科学フロンティア研究所の増本 博 教授、同金属材料研究所の高橋 三郎 助教およびJAEA先端基礎研究センターの前川 禎通 センター長の研究グループが、全く新しい発想で透明強磁性体を開発したと発表しましました。開発した材料は、ナノメートルサイズの磁性金属粒子を誘電相中に分散させた金属と絶縁体の2相からなる薄膜材料で、室温で大きな光透過率と強磁性を示し、かつ、透明度が磁場で制御可能な新しい磁気-光学効果を示すとのこと。
＜今後の展開＞
　今後は、特性の一層の向上によって透明磁気デバイスが可能となり、さらに透明電極材料と組み合わせることで透明な電気磁気光学デバイスが実現できると期待されるとのことです。
http://www.tohoku.ac.jp/japanese/2016/09/press20160928-01.html
https://www.jaea.go.jp/02/press2016/p16092802/


■超精密集積で新たな機能性材料に成功
～発光体やセンサー、医薬材料に期待～

＜概要＞
　東京工業大学科学技術創成研究院 ハイブリッドマテリアル研究ユニットおよび化学生命科学研究所の山元 公寿 教授、神戸 徹也 助教らが、発光体を1つの分子内に最大60個まで導入した新たな発光体の開発に成功し、発光体が集積してある濃度になると発光強度が低下する濃度消光の問題を解決すると共に、発光強度の自在な制御や固体発光が可能で、スイッチング特性を持つ機能性の高い発光体を構築したことを発表しました。
発光材料としてこれまで様々な発光分子が開発されてきたが、研究グループは、発光体を一つ一つ適切な場所に配置できれば濃度消光を抑制でき、強度制御可能な機能性発光体の構築が可能との想定に基づいて、その手段として、デンドリマーと呼ばれる高分子の利用を考えたとのことです。
＜今後の展開＞
　この集積手法は種々の発光分子に応用でき、ガラスやポリマーへ塗布する高輝度発光材料や、微弱発光の分子に対しても集積させることによる強度の補強などにも応用できる。光センサーや光スイッチの新たな構築法として期待できるとのこと。
http://www.titech.ac.jp/news/2016/036219.html


■酸化ハフニウム基強誘電体の基礎特性を解明
～超高密度で高速動作する不揮発性メモリー実現に道～

＜概要＞
　東京工業大学の元素戦略研究センター 清水 荘雄 特任助教ら、東北大学金属材料研究所の今野 豊彦 教授ら、NIMS技術開発・共用部門 の坂田 修身ステーション長らの研究グループが、スマホやパソコンのトランジスタ（スイッチ）の高誘電率絶縁膜として使われている酸化ハフニウム（HfO₂）を基本組成とした強誘電体について、結晶方位を制御した単結晶薄膜を作製することにより、これまで明らかになっていなかった特性の解明に成功したと発表しました。本研究は、文部科学省元素戦略プロジェクト「東工大元素戦略拠点」、同省ナノテクノロジープラットフォーム事業（東北大学 微細構造解析プラットフォーム）などの一環として行われ、構造解析には大型放射光施設SPring-8にあるNIMSのビームラインが用いられたとのことです。
＜今後の展開＞
　本研究の結果は、HfO₂を基本組成とした強誘電体の様々な応用の期待を高め、薄膜化も可能であるから，実用的な生産にも向くとする。強誘電体抵抗変化メモリーの実用化研究に繋がり、高性能で電池寿命が飛躍的に延びたスマートフォンやノートパソコンが実現できると期待しているとのことです。
http://www.titech.ac.jp/news/2016/036092.html
http://www.tohoku.ac.jp/japanese/2016/09/press20160908-01.html
http://www.nims.go.jp/news/press/2016/09/20160908.html


■従来の限界を超える高温環境で動作する不揮発性メモリー
　～人類が初めて手にする600℃超での書き換え・記録技術～

＜概要＞
　千葉工業大学工学部機械電子創成工学科 菅 洋志 助教は、国立研究開発法人 産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門内藤 泰久 主任研究員、および国立研究開発法人 物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点 塚越　一仁　主任研究者と共同で、白金ナノギャップ構造を利用し、600℃でも動作する不揮発性メモリー素子をはじめて開発したとのことです。
＜今後の展開＞
　災害時などの高温下で守ることができなかったデータを保存できるようになることで、安心・安全な社会の構築に寄与することが期待できる。また、データセンターなどで排熱を気にせず使用することができるため、冷却エネルギーを削減でき、省電力への期待も大きいとしています。
http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2016/pr20161012/pr20161012.html


■傷つけられても元に戻る透明で曇らない膜の開発
　～水溶性ポリマーと粘土粒子からなるハイブリッド膜で表面処理～

＜概要＞
　国立研究開発法人 産業技術総合研究所構造材料研究部門材料表界面グループ イングランド・マシュー 産総研特別研究員、佐藤 知哉 研究員、穂積 篤 研究グループ長は、透明で自己修復性のある皮膜をコーティングする防曇処理技術を開発したと発表しました。
　透明で耐久性に優れた防曇膜は、 簡便な処理により、ガラス等の透明基材の防曇膜として利用可能で、めがね、ゴーグル、車両・建物用ガラス、太陽光発電パネルや、その他の産業機器への活用に期待されるとしています。
＜今後の展開＞
　今後は企業と連携して、開発したPVP/AMP-ナノクレイハイブリッド膜の組成を使用用途や基板に合わせて最適化する。さらに、ハイブリッド膜の安全性の確認や硬度の改善、自己修復時間の短縮化、量産化に適した塗装方法の検討などの課題を解決し、3年以内に防曇処理技術を実用化することを目指すとしています。
http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2016/pr20161007/pr20161007.html


■特定国立研究開発法人指定のお知らせ

産業技術総合研究所、物質・材料研究機構、理化学研究所は、「特定国立研究開発法人による研究開発等の促進に関する特別措置法」に基づき、平成28年10月1日付で特定国立研究開発法人に移行したことをお知らせしています。
各々の理事長の決意表明がリンクにてご確認いただけます。ナノテクノロジーの先端技術の益々の発展につながるものと期待します。
http://www.aist.go.jp/aist_j/news/au20161001.html
http://www.nims.go.jp/news/archive/2016/10/201610010.html
http://www.riken.jp/pr/topics/2016/20161001_1/

■■平成28年度補正予算「地域新成長産業創出促進事業費補助金（地域未来投資の活性化のための基盤強化事業）」の公募について■■

＜公募概要＞
平成28年度補正予算「地域新成長産業創出促進事業費補助金（地域未来投資の活性化のための基盤強化事業）」に係る補助事業者を公募します。
＜事業内容＞
公設試等に対するIoT設備等の導入を支援すること等を通じ、地域企業によるIoT関連技術の活用を促す環境を整え、地域イノベーション創出のための新たな基盤を整備し、もって地域経済の活性化を図るものです。
＜対象者＞
公募要領で定める条件を満たす者
＜公募期間＞
平成28年10月11日（火曜日）～平成28年11月9日（水曜日）
詳細：http://www.meti.go.jp/information/publicoffer/kobo/k161011001.html


■■「研究開発型ベンチャー支援事業／企業間連携スタートアップに対する事業化支援」に係るの公募について■■

＜公募概要＞
技術・事業分野：分野横断的公募事業
事業名：研究開発型ベンチャー支援事業
事業分類：その他
対象者：企業（団体等を含む）
公募期間：平成28年10月3日～平成28年11月24日
問い合わせ先：NEDOイノベーション推進部 スタートアップグループ
　担当者：塚越、松永、橋詰
　TEL：044-520-5173 FAX：044-520-5178
　E-MAIL：vc-vb@nedo.go.jp
詳細：http://www.nedo.go.jp/koubo/CA2_100126.html

■■ 第2回TIA光・量子計測シンポジウム■■

光・量子が繋ぐTIA計測連携　～新しい科学と産業の創製をめざして～
「光・量子計測」が推進している研究・開発の現状と成果を広く知っていただくため、「第2回 TIA光・量子計測シンポジウム」を2016年11月10日に開催 いたします。

□開催概要
日程：2016年11月10日（木）
時間：9時30分～17時20分
場所：つくば国際会議場 2F中会議室　201B 202　アクセス・駐車場案内
費用：入場無料
定員：150名（先着順）
詳細：http://www2.kek.jp/URA/tiaacc2016.html


■■第3回 電池材料解析ワークショップ・最先端機器による解析講座■■

NIMS　ナノ材料科学環境拠点（GREEN）は、下記の要領で第3回電池材料解析ワークショップを開催します。

□開催概要
開催日時
① ワークショップ : 2016年11月14日（月）13:00-17:10（終了後に懇親会を開催）
② 解析講座　　　 : 2016年11月15日（火）10:00-15:30
場　所：NIMS　並木地区　WPI-MANA棟　オーディトリウム
参加費：無 料（懇親会費は有料）

主　催 :
　先端的低炭素化技術開発　次世代蓄電池研究加速プロジェクト（ALCA-SPRING）
　国立研究開発法人　物質・材料研究機構　ナノ材料科学環境拠点（GREEN）
協　賛 :
　公益社団法人　日本表面科学会　電極表面科学研究部会
プログラム・参加方法詳細：http://www.nims.go.jp/GREEN/event/2016/20160930.html


■■第27回クロマトグラフィー科学会議のご案内■■

□開催概要
日時：平成28年11月16日（水）-18日（金）
場所：慶應義塾大学芝共立キャンパス（東京都）
詳細・申込：http://keio-physchem.jp/scs27/


■■平成28年度実践セミナー 『薄膜実践セミナーⅡ』■■

産業技術総合研究所ナノプロセシング施設（NPF）は、「薄膜実践セミナーⅡ」を、2016年11月 15日（火）に産業技術総合研究所つくば中央にて開催いたします。

□開催概要
日時：平成28年11月15日（火）12：55-17：00
場所：産業技術総合研究所つくば中央2-12棟第6会議室
参加費：無料
定員：90名（先着順）
セミナー申込案内：https://ssl.open-innovation.jp/npf/training/h28-3/index.html

お問合せ先：国立研究開発法人　産業技術総合研究所つくばイノベーションアリーナ推進センター
共用施設運営ユニット・共用施設ステーション
ナノプロセシング施設
電子メール：tia-npf-school3@aist.go.jp

このnano2bizは皆様方と双方向、意見・情報を交換しながら内容の向上に努める前提でスタートしています。製品・技術紹介でも研究等のパートナー募集でも何でも結構です。

Copyright (C) Nanotechnology Business Creation Initiative. All rights reserved.