メルマガnano2biz第12号をお届けします。
NHKの大河ドラマ「八重の桜」の舞台も明治期に移りました。あのころの元気な日本人には和魂が多分に残存していました。文字通り、和魂洋才です。 その和魂も大正、昭和と時間と共に減少、特に敗戦を期に一挙に失われてしまったようです。失われた20年から抜け出さんとして試みていますが、洋才を使いこなそうとする和魂が不足しているためにうまく行かないのではないでしょうか。 洋才で西洋諸国と比肩するまでになったのであれば、和魂を見直すことが明治期のような日本の元気を取り戻すことになるなどと考えています。
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nano2biz News
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◆技術開発動向
■ プリンテッドエレクトロニクスのための液滴シミュレーション技術
−親水/撥水パターン上の液滴形状を簡易・高速・高精度に予測− 産業技術総合研究所フレキシブルエレクトロニクス研究センターのフレキシブル有機半導体チームの野田祐樹らは、表面濡れ性(親水性/撥水性)の違いによってパターニングを施した基板表面上にインクを印刷塗布したときのインク液滴の形状を、簡易・高速・高精度に予測するシミュレーションソフトウエアを開発しました。
開発した液滴形状シミュレーションソフトウエア「HyDro」は、2013年7月31日からWEB上で一般公開中(ダウンロード無償、https://sites.google.com/site/hydrojpn/)。
http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2013/pr20130731/pr20130731.html
◆セミナー等の紹介
■産総研オープンラボの開催
産総研オープンラボは企業の経営層、研究者・技術者、大学、公的機関などを対象に開催されます。 全国の研究拠点から集めた約500の研究テーマをパネル展示で紹介すると共に、つくばにある約100の研究室(ラボ)を公開されます。研究者自らが展示パネル、装置・設備を紹介しながら研究成果の内容を説明し、議論の場を設けられます。 産総研の研究開発の最前線で、ニーズとシーズのマッチングを図るまたとないチャンスになると期待されます <開催要領> 日時:2013年10月31日〜11月1日 場所:産総研センター
参加方法:事前登録必要(下記のサイトで9月9日より、受付開始)
http://www.aist-openlab.jp/
■第1回GPIC(Green Power Innovative Communicationの略)シンポジウム
〜 Clean tech & Green tech による力強いグリーンパワー産業の創出に向けて 〜
GPIC研究会より、9月9日(月)開催のシンポジウムの案内です。
本研究会のミッションは、グリーンパワー分野(創エネ、省エネ、蓄エネ)の世界で、「技術で勝ってビジネスでも勝つ」を 実現することにあります。
<開催要領>
日時:9月9日(月)13:30~17:00
場所:東京大学山上会館 大会議室
主催:GPIC研究会
http://www.greenpoweric.org/
なお、定員は90名、申し込みは先着順とのことです。
■東京工大、産総研による「微細加工実践セミナー」の開催
文部科学省委託事業である“ナノテクノロジープラットフォーム”の一環として、微細加工実践セミナーが開催されます。産学官の研究者に、超微細加工に関する装置やその利用例を学習する場と、それらの技術を実地に習得する機会を提供し、ナノテクノロジーにおける技術力向上のための継続教育に貢献することを目的としています。
<開催要領>
a) 講義: 9月30日(月)、
場所/産総研つくばセンター
内容/微細加工技術の概論を電子ビーム描画、マスクレス露光、反応性イオンエッチングに分けて分かりやすく解説するとともに、微細加工の異分野への応用事例を紹介することで、より具体的なイメージが持てるような構成になっています。産学官にかかわらず、多くの皆様のご参加をお待ちしています
b) 実習: 平成25年10月1日(火)〜10月4日(金)
場所/東京工業大学、産業技術総合研究所ナノプロセシング施設
内容/実際の装置を使った無料の操作実習プログラムです。
https://nanoworld.jp/npf/training/h25-2/
http://www.nbci.jp/nano2biz/read_pdf/uma/uma20130826_1.pdf
■KEKフォトンファクトリーの産業利用【課題募集】
nano2biz第11号で紹介しましたフォトンファクトリーの活用促進事業です。
(〆切:平成25年10月15日(火)午後5時)
この事業では、フォトンファクトリー(KEK=高エネルギー加速器研究機構放射光科学研究施設)の放射光を用いた材料評価・解析技術(X線吸収微細構造分光(XAFS)、蛍光X線分析、イメージング、トポグラフィー、光電子分光、粉末X線回折、X線小角散乱等)を産業界の研究開発に活用することができます。
KEKによれば、特にこれまで放射光利用に馴染みがなかった企業の方にも容易に利用していただけるよう、専任のスタッフが研究計画の策定、実験操作、データ解析・解釈等の支援があり、また、これらの支援や研究施設の利用に関し、利用者の費用負担はありません。
http://tia-nano.jp/events/2013/0807.html
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