メルマガnano2biz第30号をお届けします。

「オオキンケイギク」をご存知ですか。
河川敷などで群生する鮮やかな黄色の花で、その立ち姿は秋のコスモスに似ています。（キバナコスモスと似ていますが別種です。）当初はアメリカから輸入、栽培されたらしいのですが、今では日本全国に広まりすぎ、その繁殖力の強さからか「特定外来生物」に指定されています。個人的にはこの花は綺麗だから駆除しなくても良いんじゃないかとテキトウな事を考えたりしています。

「特定外来生物」の話を聞くたびに、ヒトも含めて、日本の在来種は生命力が弱いのか、弱くなったのかと考えさせられます。

頑張れ、ニッポン！頑張れ、サムライ・ブルー！？

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■世界最高の面記録密度148Gb/in²を実現した磁気テープ技術の開発に成功
〜従来比約74倍（185TB以上）の大容量データ記録が可能に〜

＜概要＞
　ソニー株式会社は，スパッタ法で微細な磁性粒子を持つナノ・グレイン軟磁性膜を作成し、この磁性膜をテープストレージメディアとして用いて、世界最高の面記録密度148Gb/in²を実現した磁気テープ技術の開発に成功しました。
＜今後の展開＞
　ソニーは、この技術を採用した大容量データ記録が可能な次世代テープストレージメディアの商品化を目指すとともに、さらなる高記録密度化に向けて、引き続きスパッタ法による薄膜形成技術の開発を進めていくとしています。

http://www.sony.co.jp/SonyInfo/News/Press/201404/14-044/index.html
https://nanonet.go.jp/topics_ntj/?mode=article&article_no=2498


■単層カーボンナノチューブを効率的に分散できる分散剤
〜光で簡単に外せて単層カーボンナノチューブ精製プロセスに応用可能〜

＜概要＞
　産業技術総合研究所ナノシステム研究部門の松澤洋子主任研究員は、少量の添加で効率よく単層カーボンナノチューブ(SWCNT)を分散でき、光を当てるとほぼ全量を簡単にSWCNT表面から外せる光応答性SWCNT分散剤が、不純物を含んだSWCNTの非破壊的な精製プロセスに適用できることを実証しました。
＜今後の展開＞
　今後は、不純物の除去率向上や光による脱離時間の一層の短縮など、精製プロセスを最適化するとのことです。SWCNTのデバイス実装技術を目指した光応答性分散剤の固体中での光反応については、この分散剤を用いてSWCNT分散液由来の固体膜を作成し、フォトリソグラフィーによるSWCNT薄膜の微細加工技術の開発へと展開していく予定とのことです。

http://www.aist.go.jp/aist_j/new_research/2014/nr20140515/nr20140515.html


■液晶を用いた気体分子のキラリティの簡便な検出法
〜気体試料を吹き付けるだけで分子の機能を左右する利き手を可視化〜

＜概要＞
　産業技術総合研究所ナノシステム研究部門の大園拓哉研究グループ長らは、微細な溝に閉じ込めた液晶の配向状態が気体試料中の光学活性分子の検知とそのキラリティ評価に利用できることを発見したと発表しました。
＜今後の展開＞
　研究グループでは、今後、実験条件を最適化して検知可能な光学活性分子を増やし汎用性の向上を図るとともに、マイクロリンクルを利用した新奇な機能部材の研究にも取り組むとのことです。

https://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2014/pr20140501/pr20140501.html


■ワット級高出力フォトニック結晶レーザーを世界に先駆けて実現
〜世界初，面発光型レーザーにより高ビーム品質でワット級の高出力を達成〜

＜概要＞
　京都大学工学研究科 光・電子理工学教育センター長の野田進教授の研究グループと浜松ホトニクス株式会社は、次世代の半導体レーザーとも言えるフォトニック結晶レーザーの開発を行い、非常に狭い放射角（3°以内）を持つ、光出力1.5Wのワット級レーザーの室温連続動作に世界で初めて成功したと発表しました。
＜今後の展開＞
　本研究によるワット級フォトニック結晶レーザーの実現は、レーザー加工等の光製造分野への半導体レーザーの応用の礎になるという。研究チームは、さらなる高出力化により、現在ファイバーレーザーが用いられている金属の切断や溶接への置き換えが可能となり、車体の金属加工などの広範なものづくり現場への応用の展開が可能になるとしています。　また、光製造分野以外でも、ディスプレイの波長変換用基本波光源、バイオ・医療・分析分野の高解像度レーザー顕微鏡など多くの光源としての応用の展開に期待しており、更に、より基本的なインパクトとして、半導体レーザーそのものにも大きな革命をもたらすことが期待されています。

http://www.kyoto-u.ac.jp/ja/news_data/h/h1/news6/2014/140414_1.htm
http://www.hamamatsu.com/jp/ja/news/development/20140410000000.html


■準平面型の骨格を用いた革新的有機半導体材料開発に成功
〜太陽電池の高効率化に期待〜

＜概要＞
　京都大学化学研究所 若宮敦志准教授、村田靖次郎教授らの研究グループは、独自に設計した準平面型の骨格を用いた電荷輸送特性に顕著な異方性を示す革新的な有機半導体材料の開発に成功し、今後、有機太陽電池の高効率化や有機EL素子の高性能化に繋がると期待されると発表しました。
＜今後の展開＞
　研究グループは、準平面構造を用いる分子設計概念に基づいて、有機半導体材料の開発を進めることにより、有機太陽電池、有機無機ハイブリッド型太陽電池の高効率化および有機EL素子の高性能化を目指しています。

http://www.kyoto-u.ac.jp/ja/news_data/h/h1/news6/2014/140426_1.htm


■赤外線カラー暗視カメラ用の撮像素子を開発
〜手のひらサイズの小型カメラでカラー暗視撮影〜

＜概要＞
　産業技術総合研究所ナノシステム研究部門永宗 靖 主任研究員らと、シャープ株式会社は共同で、赤外線カラー暗視撮影用の撮像素子を開発しました。
今回開発した撮像素子は、産総研が独自に開発した暗闇でもカラー動画が撮影できる技術による撮影映像の高精細化・高フレームレート化ができる新方式の撮像素子です。
また、単板方式による撮影に適用できるため撮影装置の小型化も可能となります。さらに、量産による低価格化も可能であり、撮影装置の小型化や低価格化を進めることで、赤外線カラー暗視撮影技術の適用範囲の拡大や新規アプリケーションの開拓などが期待されます。
＜今後の展開＞
　今回開発した撮像素子の一層の高性能化を進めており、シャープ、株式会社ナノルクス研究所により、2014年度中の製品化に向けて、より高度化された赤外線カラー暗視カメラや赤外線照射機などを開発中である。


http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2014/pr20140514/pr20140514.html


■透明時の可視光透過率が70%以上の調光ミラーを開発
〜自動車のフロントガラスへ適用できる透過率条件をクリアー〜

＜概要＞
　産業技術総合研究所サステナブルマテリアル研究部門の山田保誠 主任研究員らは、透明状態での可視光透過率が70%を超える新しい調光ミラーを開発しました。
鏡状態と透明状態を切り替えることができる調光ミラーを用いた窓ガラスは、透明な複層窓ガラスに比べると夏場に高い冷房負荷低減効果があり、鏡状態と透明状態の切り替えの繰り返し耐久性が実用に足る調光ミラー材料や安全なスイッチング方式が開発され、早期の実用化が期待されています。
＜今後の展開＞
　調光ミラーを窓ガラスとして利用する場合、太陽光に対する耐候性の評価は必須であり、今後は暴露実験を行い、近い将来、調光ミラーガラス窓を実用化しオフィスビルや自動車の窓材に用いて冷暖房負荷を大幅に低減できるよう研究開発を進めるとのことです。

http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2014/pr20140512/pr20140512.html

■JFCC 2014年度 研究成果発表会のご案内

　今回の発表会では、『革新技術を支える新材料開発と先端解析技術』のキャッチフレーズのもと、産業・社会の課題解決に大いに期待される最新の研究成果の発表や、さまざまな分野で活用いただけるJFCCの最先端の研究機器や幅広い技術力の紹介があります。

○東京会場
日時：2014年7月4日（金）13：00〜（ポスターセッション36件は12:00〜）
場所：東京大学「武田ホール」定員250名
特別講演：名古屋大学 教授 石川隆司 氏
「日本の先進複合材料研究の最先端の展望：世界に勝つために 」

○名古屋会場
日時：2014年7月11日（金）13：00〜（ポスターセッション36件は12:00〜）
場所：愛知県産業労働センター「ウインクあいち」定員300名
特別講演：大阪府立大学 教授 辰巳砂 昌弘 氏
「ガラスセラミック電解質を用いた全固体二次電池の開発」

○大阪会場
日時：2014年7月25日（金）13：00〜（ポスターセッション36件は12:00〜）
場所：大阪大学中之島センター「メモリアルホール」 定員200名
特別講演：東北大学 教授 後藤 孝氏
「CVDによるファインセラミックスの開発」

参加申し込み：参加無料ですが、事前登録が必要です。
http://www.jfcc.or.jp/26_event/


■山口大学の真空技術の研究開発に関する講座のご案内

　真空技術の研究開発について定評のある山口大学は、微細加工プラットフォーム（文部科学省事業）の16実施機関の内の1つです。
　今回、2つの講座のご案内をさせていただきますので、奮ってご参加くださるようお願いします。また、真空技術にご関係の方をご存知でしたら、本講座をご紹介いただけますと幸いです。

【ご案内1】 日本真空工業会・山口大学 共催 【ものづくりと真空技術】講座
　 開催日時；2014年7月4日（金）9：20−17：00
　 開催会場； 福岡朝日ビル（博多駅前）
　 講座内容；1.「真空の世界」 　　　　栗巣 普揮 講師（山口大学大学院）
　 　 　　　　　2.「真空の利用技術」　 木ノ切 恭治 講師（日本真空工業会）
　 申込方法； 日本真空工業会ホームページ　
　 http://jvia.gr.jp/kousyu_kouen/manufacturing/

【ご案内2】 山口大学公開講座（特別講座）【実用講座　真空技術の基礎と応用】
　 山口大学では、下記の通り、受講生を募集しています。

≪開講講座≫----------------------------------------------------------------
�T．【講義/短期実習/演習】（平成26年9月末〜12月開講　於 山口大学）
　 ＜真空工学コース，真空プロセスコース，マイクロ加工コース＞
　 　　⇒7月1日募集開始
�U．【実践型実習】（開催日時・テーマは相談の上決定、於 山口大学）
　　＜大学所有の微細加工装置・薄膜形成装置を利用した実習カリキュラム＞
　 　　⇒年間随時募集
�V．【出張講座】（開催日時・テーマ・開催場所は相談の上決定）
　　＜真空工学・薄膜形成・微細加工などの講義，演習の講師派遣型講座＞
　 　　⇒年間随時募集
　　　
　 その他の詳細はホームページをご覧ください。
　　　　　　　http://www.vacuum.eng.yamaguchi-u.ac.jp/
　
　 ◆参加申込・お問合せ先◆
　 　 　山口大学公開講座「真空技術の基礎と応用」事務局
　 　 　[窓口] 山口大学 工学部 総務企画課総務企画係
　　　 　 　TEL; 0836-85-9030　FAX; 0836-85-9016
　　 　 　　E-mail；　shinku@yamaguchi-u.ac.jp


■第三回TIAパワーエレクトロニクス・サマースクール開催
　つくばイノベーションアリーナ・パワーエレクトロニクスWGは、人材育成活動の一環として、第三回TIAパワーエレクトロニクス・サマースクールを開催します。

◇開催日：2014年8月22日〜25日
◇対象者：大学院生、及び、社会人（原則として若手を優先します）
　パワーエレクトロニクスの未来に夢を持つ方に限ります。
◇ 参加費：無料
　 　※学生の方は、TPEC（Tsukuba Power-Electronics Constellations）から、
　 　往復交通費と滞在費（上限有）の全額補助を予定しています（食事代を除く）。
　 　社会人は有償となります。（TPEC参加機関を除く）
　 　http://www.tia-nano.jp/tpec/general/pdf/tia_power_ele_summer_school_3.pdf

このnano2bizは皆様方と双方向、意見・情報を交換しながら内容の向上に努める前提でスタートしています。製品・技術紹介でも研究等のパートナー募集でも何でも結構です。

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